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MultiPrep™系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不*性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。
双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。
数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的*处理能力。
常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等
特征
MultiPrep定位头特点：
前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程）， 精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转
1微米分辨率
双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。 后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率
6倍速样品自动摆动 齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品
凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具 8倍速样品自动旋转
样品调整范围：0-600克（100克增量） 美国ALLIED设计制造
研磨/抛光机特点：
研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量） 数字计时器和转速表
7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能 顺时针/逆时针研磨盘旋转
可选的AD-5 ™自动操作流体分配器 调节阀电子控制冷却液
0.5 HP（375 W），高扭矩马达 稳定的RIM，铝和不锈钢结构
腐蚀/耐冲击盖 一年保修
符合欧盟CE标准 由美国Allied设计制造
项目＃ 描述
15-2200 MultiPrep™精密抛光系统，用于8"研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相
包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒
Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)
Weight: 95 lb. (43 kg)
15-2200-TEM 带O型环驱动的MultiPrep™系统，用于8"研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光
包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒
Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)
Weight: 125 lb. (57 kg)
http://www.sikcn.com.cn/Products-31793454.html
https://www.chem17.com/st404369/product_31793454.html